NanoSystem Solutions, Inc. 快速激光直写光刻机型号:DL-1000

NanoSystem Solutions, Inc.
型号:DL-1000
•暴露面积：~300mm x 300mm
•特征尺寸：1.0μm、0.5μm
•最大曝光速度：2000mm2/min（特征尺寸：1μm，光源：激光）
•自动聚焦/第二层对准：同轴光学系统>>高鲁棒性和高精度
•灰度曝光：3D图案化
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